3月25日消息，据俄罗斯卫星通讯社报道，莫斯科市长谢尔盖·索比亚宁近日在其 “电报” 频道的账号上发文称，莫斯科“泽列诺格勒纳米技术中心”公司已完成了俄罗斯首台350nm光刻机的研发工作，这是生产微芯片的关键设备。

在俄乌冲突爆发后，美西方对俄罗斯实施了更为严厉的出口管制措施，其中半导体芯片及光刻机等半导体设备成为了限制的重点，这也迫使俄罗斯开始研发自主设计的国产光刻机。

2023年，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）在接受媒体采访时就曾表示，2024年俄罗斯将开始生产350nm光刻机，2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机。光刻机的生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。

随后在2024年5月，俄罗斯塔斯社报道称，在CIPR 2024会议期间，Vasily Shpak宣布，俄罗斯首台国产光刻机已经组装完成，并正在泽列诺格勒进行测试，该设备可确保生产350nm的芯片。但是当时Vasily Shpak并未透露更多关于该光刻机的细节。

莫斯科市长谢尔盖·索比亚宁近日的最新爆料显示，莫斯科“泽列诺格勒纳米技术中心”公司已完成了俄罗斯首台350nm光刻机的研发工作，并曝光了部分相关照片。

“全球有能力制造这一微芯片关键生产设备的不到10个，如今，俄罗斯也跻身其中。我们已向过渡到自主生产微电子产品和国家技术完全独立上迈出了最重要的一步。”索比亚宁还指出，俄罗斯的这一设备与外国类似设备有着非常大的不同，俄罗斯的这一设备首次使用固体激光器来作为辐射装置，而不是汞灯，固体激光器功率大、能效高、耐用性强、光谱更窄。

众所周知，光刻机对于半导体的生产极为重要，当前全球只有荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国的上海微电子这四家公司能够生产光刻机，但是能够生产先进制程的光刻机只有ASML、尼康和佳能能够供应。虽然350nm是一种非常成熟的制程，但是依然可以满足部分汽车、能源和通信行业的芯片需求。

莫斯科“泽列诺格勒纳米技术中心”公司总经理阿纳托利·科瓦列夫表示：“我们公司已按照国家合同完成了俄罗斯首台350nm拓扑结构的投影式光刻机的研发工作。这一项目是与白俄罗斯“Planar”工厂合作实施完成的。在2024 年 12 月测试成功后，这一光刻机就获得了国家委员会的认可，并记录了所有申报的技术特征。目前已有客户购买了这一设备，现在这一设备的工艺流程正根据最终用户对生产的特殊要求进行调整。”

报道称，该350nm光刻机的工作区域面积显著增加，达到了 22mm x 22mm，可加工最大直径为200mm的晶圆。

据莫斯科市投资和工业政策局指出，“泽列诺格勒纳米技术中心”公司已做好了批量生产这款350nm光刻机的准备。此外，“泽列诺格勒纳米技术中心”目前还正在按第二份国家合同继续开展 130 纳米光刻机的研发工作，预计于 2026 年完成。

根据此前曝光的计划，2024年俄罗斯将拨款2,114亿卢布（约合人民币166.16亿元）用于国内电子产品的开发，其将包括可以生产350nm制程芯片的光刻机，2026年将完成用于生产130nm制程芯片的光刻机。

而俄罗斯决定开发350nm到65nm光刻机的原因，在于这一技术范围内的芯片多用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等方面上，这些应用大约占据了整个市场的60%。所以，这类光刻机在全世界市场的需求量很大，并且将在至少10年内有持续的需求。

Vasily Shpak此前还曾指出，一个简单的逻辑就是，如果没有半导体主权，那就没有技术主权，这将导致国防安全和政治主权方面就非常脆弱。

而现在俄罗斯已经掌握了使用国外国光刻机制造65nm芯片的技术，但因为外国公司被禁止向俄罗斯出口先进的光刻机，所以俄罗斯也需要积极开发自己的光刻机。

针莫斯科政府部长兼投资和工业政策局局长阿纳托利·加尔布佐夫评论道：“莫斯科是俄罗斯微电子发展的中心。如今莫斯科约占俄罗斯微电子企业总营收的40%。微电子学和光子学的发展在城市和商业领域的各个行业都有着广阔的应用前景，包括光通信、传感技术、无线电光子学等诸多方向。‘莫斯科科技城’经济特区的入驻企业目前正在实施一系列重大项目，每个项目都旨在生产具有战略意义的产品。”